<menu id="o4o44"></menu>
  • 返回
    當前位置:首頁>觀察>正文

    Intel CPU芯片工廠已有多臺EUV生產設備 數量保密

    來源:快科技  作者:整理  日期:2022-02-17 15:13:45

    過去幾年中Intel在芯片工藝上被認為落后于臺積電、三星,一個重要原因就是沒有及時跟進EUV工藝,讓兩家對手搶先量產了7nm、5nm等工藝,不過Intel這一年來變化很大,也對EUV光刻工藝上心了,加速推進新工藝量產。

    Anandtech網站的核心編輯Ian Cutress日前受邀參觀了Intel在俄勒岡州的D1X工廠,他表示在那里看到了一些EUV生產設備,不過具體有多少就不能說了,顯然這是Intel的商業機密,不能對外透露。

    1月底,Intel宣布了一批EUV設備進廠,不過當時進場安裝的是歐洲愛爾蘭的Fab 34晶圓廠,那是一臺光刻膠顯影設備(lithography resist track),將與EUV極紫外掃描儀搭檔,首先為硅晶圓覆上精密的涂層,然后進入EUV掃描儀,進行曝光,接著晶圓回到光刻設備,再進行一系列的高精密光顯影、清理操作。

    愛爾蘭的Fab 34晶圓廠未來會量產Intel 4工藝,也就是之前的7nm工藝,這是Intel首個使用EUV光刻機的工藝,2023年的14代酷睿Metor Lake處理器會首發該工藝。

    不過Intel在EUV光刻機上的野心很大,重點會放在下一代EUV光刻機上,已經搶先訂購了NA 0.55高數值孔徑EUV光刻機,據說成本高達3億美元,約合19億元。

    相比目前NA 0.33的EUV光刻機,Intel購買的新一代光刻機可以量產更先進的CPU工藝,未來的20A、18A工藝都會用上,最快2025年量產。

    分類:觀察
    標簽:CPU芯片
    編輯:tmt
    版權聲明:除非特別標注,否則均為本站原創文章,轉載時請以鏈接形式注明文章出處。文章版權歸原作者所有,內容不代表本站立場!
    免責聲明: 閣下應知本站所提供的內容不能做為操作依據。本站作為信息內容發布平臺,不對其內容的真實性、完整性、準確性給予任何擔保、暗示和承諾,僅供讀者參考! 如文中內容影響到您的合法權益(含文章中內容、圖片等),請及時聯系本站,我們會及時刪除處理。
    两个人日本高清,牛牛久热免费精品视频,扒开美女的内裤看到它的j
    <menu id="o4o44"></menu>